本次研讨会将聚焦热扫描探针光刻（t-SPL）技术，结合前沿科研应用与实际操作演示，深入探讨其在纳米制造及纳米原位改性中的最新进展。
通过专题报告与现场演示，参会者将全面了解 NanoFrazor 的热扫描探针光刻技术，并探索其在不同研究领域中的应用潜力。
参与本次研讨会，您能：
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深入理解热扫描探针光刻（t-SPL）技术原理及其核心优势。
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掌握 NanoFrazor 在纳米制造与纳米原位改性中的典型应用。
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学习多探针协同光刻（Decapede）提升加工效率的方法。
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了解完整实验流程（从设计到图形转移）。
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获取软件与工艺流程的实际操作经验。
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与领域专家面对面交流，探讨具体科研问题
本次研讨会适合：
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微纳加工 / 纳米原位改性方向科研人员。
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材料科学、量子器件、电子器件等领域研究者。
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需要高精度纳米加工技术的课题组。
研讨会日程
2026年4月23日，W4, 4th floor, conference room
09:00 – 09:30 | 签到
09:30 – 09:40 | 开场致辞 | Prof. Wei Xu (HKUST (GZ))
09:40 – 10:10 | NanoFrazor 纳米制造技术：热扫描探针光刻原理及其应用 | Dr. Jialiang Gao (Heidelberg Instruments Nano)
10:10 – 10:30 | 茶歇
10:30 – 11:30 | NanoFrazor 热扫描探针光刻软件功能及图形转移流程概述 | Mr. Andrea Ubezio (Heidelberg Instruments Nano)
11:30 – 12:00 | 问答交流
12:00 – 13:30 | 午餐
13:30 – 14:00 | NanoFrazor Decapede 多探针光刻及纳米原位改性应用 | Dr. Jialiang Gao (Heidelberg Instruments Nano)
14:00 – 15:15 | NanoFrazor Decapede 多探针光刻版图设计要点及协同加工策略 | Mr. Andrea Vischioni (Heidelberg Instruments Nano)
15:15 | 总结与交流
注：会议日程可能根据实际情况进行调整
